赛默飞展台
半导体行业的发展，生产力的发展。1984年个人电脑开始普及、1990年互联网诞生、2002年3G通信时代来临、2007年智能手机诞生，这些时间节点上的变化，其实都有半导体行业的“大进展”。GDP的增长，半导体的影响可谓功不可没。
硅晶片是应用广泛的半导体基材，工业上使用对其纯度要求特别高，通常需要在99.9999999% 以上。在生产制造过程中，通常需要对其纯度进行检测。常用硅纯度检测的方法如：气相分解—电感耦合等离子体质谱联用方法（简称 VPD 法），具有业界所需的检测限和稳定性，测试结果快速可靠。为了得到更加精确的结果，去除基体溶液中多原子离子的干扰是非常必要的，比如使用串接式ICP-MS iCAP™ TQs。
iCAP™ TQs ICP-MS助力半导体发展
赛默飞专业技术团队和销售团队现场与观众进行深入探讨交流，为半导体行业的发展贡献一份力量。
领略TQ技术：高效的干扰消除能力，确保准确可靠的测试结果
• 利用多达四种不同的碰撞反应气体和的Reaction Finder技术来简化方法开发步骤。无需拥有复杂反应化学的高深知识，Reaction Finder帮您完成
• 综合反应气体处理功能，确保仪器操作安全可靠
• 采用预设的单模式动能歧视效应（KED），简便、快速、可靠地获得SQ的分析结果
• 在单个样品的分析中轻松实现从SQ到TQ模式的切换，保证的分析灵活性，为完整分析提供结果
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多层次技术支撑满足您的分析要求
一、痕量金属及无机元素杂质检测方案
1. ICP-MS 检测解决方案
Thermo Scientific™ ICP-MS 产品包括Thermo Scientific™ iCAP™ RQ （单四极杆） 和 Thermo Scientific™ iCAP™ TQs（三重四极杆），可轻松实现：
1）高纯试剂（清洗剂和刻蚀剂）中痕量元素杂质实验室和在线分析；
2）单晶硅锭和晶圆中痕量元素分析；
3）wafer 表面痕量元素分析。
ICAP RQ
ICAP TQ
2. 高分辨 ICP-MS 检测解决方案
HR-ICP-MS 是以电磁场和静电场作为质量分析器，结合的固定分辨率狭缝技术实现高质量分辨率的ICP-MS。采用高分辨ICP-MS 分析半导体级别试剂中杂质元素更简单方便，高分辨ICP-MS 具有更强的抗干扰能力。
ELEMENT™ 系列 ICP-MS
二、痕量离子态杂质检测方案
1. 离子色谱（IC）检测解决方案
赛默飞提供世界的离子色谱和相关技术为高纯水痕量阴阳离子分析的离线和在线监测、半导体表面痕量阴阳离子污染分析、高纯试剂中离子杂质和工作场所空气中痕量离子态物质的分析提供解决方案。尤其是高纯水，几乎半导体生产的所有过程均需要使用，因此其质量非常重要，如ASTM 和SEMI 对高纯水中杂质离子有不同的明确限值要求。
通过赛默飞离子色谱，采用大定量环上样，可实现高纯水中ppt 级别杂质分析：
Dionex™ ICS-6000多功能高压离子色谱
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